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第462章 叶海亚考察（第1页）

6月7日，“光刻联盟”公司召开成立大会的第三天，公司总经理叶海亚就开启了第一次实地考察之旅。

要让“光刻联盟”公司的愿景得以实现，作为公司运营的最高决策者，叶海亚不能够没有第一手信息。从另一个角度讲，要把联盟内的十家牛逼哄哄的企业拧成一股绳，不是散沙一盘，还真的要下一番功夫。举个例，资金如何分配，如何制定光刻机关键技术的时间节点……这些都不可能一拍脑门子。

先技术后管理，这是叶海亚给自己构想的工作思路。毕竟，在光刻机这个领域，人们更在乎技术，有了先进的技术，才谈得上管理。

叶海亚选定考察的第一家企业是路维光电，临行前，叶海亚给柏荣耀打了个电话。

光掩模是半导体制造过程中的关键部件，用于将设计图形转移到光刻胶上，进而制造出芯片或显示器。对于集成电路用途的光掩模，下游晶圆厂客户再通过微影制程技术，把光罩上的电路图案转换到半导体晶圆上。通俗的理解，光掩模的功能类似于传统照相机的“底片”。

路维光电公司的核心产品主要就是光掩膜，公司于2019年成功建设G11掩膜版产线，成为国内第一家、世界第四家掌握G11高世代掩膜版生产技术的本土企业。路维光电能够全面配套不同世代面板产线（G2.5—G11），并成功突破超高世代掩膜版制造技术、高世代高精度半色调掩膜版制造技术和光阻涂布技术，打破了国外厂商的长期垄断。

叶海亚本次考察路维光电的目的有两个：一是摸摸底，看看路维光电的光掩模技术究竟如何。二是落实关键技术节点，划拨研发资金。

考察较为顺利，叶海亚参观了路维光电公司最新的实验成果和最先进的生产线。参观后的的座谈会上，柏荣耀给叶海亚较为全面的介绍了当今全球光掩模行业的发展现状，大漂亮的福尼克斯公司是全球最大的行业龙头老大，历史悠久，技术领先。路维光电和福尼克斯相比，技术差距已经由相差20年缩小到5年，相信在加强资金投入的状况下，路维光电能够在未来两年内追上福尼克斯的技术。

叶海亚知道，福尼克斯很早就在兔子家开办公司，就在京城。

叶海亚做了总结性发言，他讲到，路维光电公司是国内光掩模行业的顶级企业，应当在国产光刻机崛起的过程中扮演极为重要的角色。刚才我了解到路维光电的技术实力，也听到了柏总的介绍，让我对光掩膜这个行业现状有了一个基本的认识。虽然路维光电的技术离全世界最顶尖的技术还有一些差距，不过不要紧，我相信由光刻联盟这家公司作后盾，提升路维光电公司在光掩模方面的技术不是问题。

接下来，叶海亚和柏荣耀具体讨论了资金问题，双方达成初步协议：光刻联盟反向路维光电注资20亿，拥有10%的股份。这样一来，路维光电算是和光刻联盟深度捆绑。

在结束对路维光电的考察之后，叶海亚继续向下一站长春国科精密出发。长春国科精密副董事长、光刻联盟公司董事于在洪提前得到行程消息。

长春国科精密前身为中国科学院长春光学精密机械与物理研究所超精密光学工程研究中心。其核心产品主要包括高端投影光刻机曝光光学系统和超精密光机制造与检测设备。公司成立于2014年8月，公司总部位于吉林省长春市，并在沪市设有投影光刻照明系统研发事业部。

长春国科精密公司在极大规模集成电路光刻投影光学、显微光学、多光谱融合成像探测、超精密光机制造等领域有着超高技术研究，并开展相应高端光学仪器与装备产品的研发工作，并建成了价值高达5亿元的超精密光机系统研发与制造平台。

公司历年承担国家科技重大专项核心光学项目，如IC制造高端投影光刻机曝光光学系统产品的研制，标志着我国超精密光学技术已跻身国际先进行列。此外，长春国科精密公司还承担了等多种类型高端IC制造投影光刻机曝光光学系统的技术研发及产业化推进工作。

可以说，在国内，在复杂精密光学仪器开发与制造行业，无人能出其右者，是当之无愧的行业老大。

长春国科精密副董事长、光刻联盟公司董事于在洪对叶海亚总经理的到来表示热情欢迎。他带领叶海亚参观了国内最大的顶尖的超净厂房，参观了那个价值高达5亿元的超精密光机系统研发与制造平台。

在会谈阶段，于在洪汇报了长春国科精密近几年在光刻机曝光系统方面取得的重要突破：公司研制的国内首套数值孔径0.75的ArF曝光系统EpolithA075已经成功交付用户，实现了整机曝光分辨率85纳米的理想结果，进一步提升了我国超精密光学技术的国际地位。

同时，长春国科精密在超精密光学技术方面的有着深厚的积累，掌握了超精密光机系统协同设计、超精密机械结构设计、全频段亚纳米精度光学加工与检测等关键技术。公司的ArF曝光系统实现了全视场平均波像差优于4纳米、全视场平均畸变优于5.7纳米的核心指标。

叶海亚则对长春国科精密取得的各项令人侧目的成绩表示祝贺，他强调，光刻机曝光系统是光刻机的关键技术，希望长春国科精密公司在最求世界最顶尖的光学设备方向继续奋斗，为把我国国产高端光刻机早日面世而勤奋努力。

在技术指标方面，叶海亚向于在洪提出了“光刻联盟”的要求：长春国科精密新一代曝光系统出台时间不得晚于2023年年底，必须适配5纳米芯片制程。为此，“光刻联盟”将拨付10亿元作为增强研发一期经费。

随后，双方签署拨款协议，于在洪协议中郑重承诺：长春国科精密新一代曝光系统将按照协议约定，准时保质交货。

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