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第363章（第2页）

结果领导冷不丁的过来了。

猝不及防啊。

“我就是过来看看。”南雁对机械还算懂行，但光刻机这可不止是机械，涉及到了光化学种种，她虽说知道一些关键性的知识。

但眼下压根派不上用场。

提了也没用。

光刻机的发展历程大概可以分为五代。

接近式光刻机、分步重复式等倍投影光刻机、步进式缩小投影光刻机、步进扫描式投影光刻机以及日后大杀四方的极紫外光刻机即EUV光刻机。

六十年代和七十年代前半段是接近式光刻机的时代，尽管后来出现了渐进式光刻机，但因为技术缘故，良品率低，这导致芯片成本居高不下。

就连美国军方都觉得贵。

提高良品率显然很有用。

想要提高良品率，不外乎两个途径，一来提高晶圆也就是多晶硅的纯度。

二来则是提高光刻机的性能。

无线电厂这边选择的是提高晶圆的纯度，这当然无可厚非。

甚至可以说，掌握了这一技术，不管何时都能够保证绝对的晶圆纯度，在眼下比提高光刻机性能更具有性价比。

试想，国内光刻机远远落后于日本，现在还在使用接近式光刻技术却能够达到和日本半导体一般无二的良品率，可以想象晶圆纯度的提升有多牛掰。

但只有这个技术还不够。

毕竟提升晶圆纯度的方法是多样的，说不定哪天日本也掌握了其他方法提高晶圆纯度。

到那时候这专利也不再具有独一无二性。

咋办呢？

所以提高光刻机的性能是必备选项。

一口吃个大胖子不可能，再说现在的技术也远远没达到二十世纪末的标准。

极紫外光刻技术这个杀手锏与这个时代格格不入。

国内半导体设备想要发展，也得循序渐进的来。

事实上在七十年代，还是硅谷那边的半导体厂商在打架，日本半导体产业远没有那么强有力的竞争力。

马萨诸塞州的PerkinElmer率先搞出了投影式光刻机Micralign100，让芯片不再那么贵不可攀。

几年后，GCA公司又推出了步进式光刻机DSW4800。

从特曼教授寄来的杂志中不难看出，这台步进式光刻机有着更先进的制程，更高的良品率以及提供更高的芯片性能。

PE的市场被GCA蚕食。

而在亚洲，日本的尼康和佳能这两个光学行业的佼佼者也才刚刚入局半导体设备行业。毕竟此时的光刻机技术还没有那么精细，光学行业的顶流用一星半点的技术，就足以追赶眼下的光刻机时髦。

一水之隔的中国，想要追上这脚步却并不轻松。

因为国内并没有太好的光化学公司。

昔日参与了国内第一台光刻机研发的上海光学仪器厂，做不出如此高精度的镜头。

而这，正是南雁给半导体研究中心的难题。

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